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Catalogue No. | CY3453 |
Matériau du substrat | <110>, YSZ, 10x10x0,5 mm |
Finition de la surface | Une face polie |
Orientation | <110> |
Composition des couches minces épitaxiées | CeO2 |
Épaisseur du film épitaxial | 40 nm ± 10 nm |
Lesubstrat YSZ revêtu de CeO2 peut être utilisé comme substrat dans le domaine de la nanotechnologie, de la microscopie électronique à balayage (MEB) et de la microscopie à force atomique (AFM). Stanford Advanced Materials (SAM) possède une grande expérience dans la fabrication et la fourniture de produits optiques de haute qualité.
Produits connexes : Substrat SiO2/Si revêtu de Cu, Substrat SiO2/Si revêtu de Ni, Plaque de silicium plaquée or, Plaque de silicium plaquée Pt, Plaque de silicium plaquée Ag
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