Description de la cible de pulvérisation de cobalt (Co)
La cible de pulvérisation de cobalt (Co) est conçue pour être utilisée dans les processus de dépôt par pulvérisation, offrant une grande pureté et une grande fiabilité dans la fabrication de couches minces et de revêtements. Fabriquée à l'aide de techniques avancées, cette cible offre des formes personnalisables - allant de disques standard à des configurations sur mesure - garantissant une flexibilité pour des applications industrielles spécifiques. Ses propriétés physiques robustes en font un choix idéal pour la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques et l'ingénierie de surface, offrant des performances exceptionnelles dans des conditions exigeantes.
Applications des cibles de pulvérisation de cobalt (Co)
- Microélectronique : Essentielle pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs et de circuits intégrés.
- Revêtements optiques : Utilisés pour créer des couches réfléchissantes et antireflets pour les dispositifs optiques de précision.
- Ingénierie des surfaces : Appliqué à la production de revêtements résistants à l'usure et décoratifs pour divers outils industriels.
- Recherche et développement : Idéal pour les installations expérimentales et les recherches sur les matériaux innovants dans les laboratoires universitaires et industriels.
Emballage des cibles de pulvérisation du cobalt (Co)
La cible de pulvérisation de cobalt (Co) est conditionnée dans des conditions contrôlées et propres afin de garantir l'intégrité du produit et des performances optimales. Elle est disponible dans un emballage scellé sous vide pour les disques standard, avec des solutions d'emballage personnalisées pour les formes de cibles sur mesure. Veuillez contacter notre service d'emballage pour plus de détails sur les options de poids et les spécificités de l'expédition.
Questions fréquemment posées
Q : Quelles sont les principales applications de la cible de pulvérisation de cobalt (Co) ?
R : Elle est principalement utilisée pour le dépôt par pulvérisation dans la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques et les applications d'ingénierie de surface.
Q : La cible peut-elle être adaptée à des tailles ou des formes spécifiques ?
R : Oui, outre les formes de disque standard, la cible peut être personnalisée pour répondre aux exigences d'une application unique.
Q : Quelle méthode de pulvérisation est recommandée pour cette cible ?
R : La cible est optimisée pour les processus de pulvérisation à courant continu, ce qui garantit un dépôt stable et efficace des couches minces.
Q : Comment la grande pureté de la cible est-elle maintenue ?
R : La cible est produite avec un niveau de pureté de ≥99% et fait l'objet de procédures strictes de contrôle de la qualité afin de garantir des performances constantes.
Q : Quelles sont les conditions de stockage recommandées pour la cible de pulvérisation ?
R : Elle doit être stockée dans un environnement propre et sec, idéalement dans son emballage scellé sous vide, afin d'éviter toute contamination et de maintenir sa qualité dans le temps.
