Description de la cible de pulvérisation de cérium (Ce)
La cible de pulvérisation du cérium (Ce) est conçue pour offrir des performances optimales dans les processus de dépôt de couches minces et de dépôt physique en phase vapeur. Fabriquée avec une pureté élevée (≥99%), cette cible garantit des rendements de pulvérisation constants et une formation de film de haute qualité dans des conditions RF et DC. Sa conception s'adapte à la fois aux disques standard et aux formes personnalisées, ce qui en fait un choix polyvalent pour la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques et les applications de recherche avancée. Les caractéristiques robustes du cérium garantissent également la durabilité dans des conditions de traitement difficiles, ce qui assure des performances fiables dans les applications critiques.
Applications des cibles de pulvérisation du cérium (Ce)
- Fabrication de semi-conducteurs : Idéale pour déposer des couches minces uniformes dans les circuits intégrés et les appareils électroniques.
- Revêtements optiques : Utilisées pour les revêtements réfléchissants et antireflets de précision dans les applications optiques avancées.
- Microélectronique : Permet la fabrication de composants de haute précision dans les capteurs, les écrans et d'autres appareils.
- Recherche et développement : Largement utilisé dans les laboratoires qui étudient la science des matériaux avancés et la nanotechnologie.
- Ingénierie industrielle des surfaces : Elle sert à divers processus de modification de surface dans des opérations industrielles à forte demande.
Emballage des cibles de pulvérisation du cérium (Ce)
Nos cibles de pulvérisation de cérium (Ce) sont soigneusement emballées afin de préserver leur état et leurs performances. Chaque cible, qu'il s'agisse d'un disque standard ou d'une conception sur mesure, est scellée sous vide dans un emballage protecteur afin de garantir un stockage sûr et un transport sans contamination.
Questions fréquemment posées
Q : Quelles sont les principales applications des cibles de pulvérisation du cérium (Ce) ?
R : Elles sont principalement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques, la microélectronique et la recherche sur les matériaux avancés pour le dépôt de couches minces.
Q : Comment les modes de pulvérisation RF et DC améliorent-ils les performances de la cible ?
R : La capacité de pulvérisation bimode permet des conditions opérationnelles flexibles, offrant un dépôt de film optimal et une efficacité de pulvérisation uniforme dans diverses applications industrielles.
Q : La forme de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, nos cibles de pulvérisation de cérium (Ce) sont disponibles sous forme de disques standard ou peuvent être fabriquées sur mesure pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.
Q : Quel est le niveau de pureté garanti pour ces cibles de pulvérisation ?
R : Chaque cible est produite avec un niveau de pureté de ≥99%, ce qui garantit des performances constantes et un dépôt de film fiable.
Q : Comment le produit est-il emballé pour éviter toute contamination pendant le transport ?
R : Les cibles sont scellées sous vide dans un emballage protecteur, ce qui garantit qu'elles restent exemptes de contamination et dans des conditions optimales pendant le stockage et l'expédition.
