Description de la cible de pulvérisation de chrome (Cr)
La cible de pulvérisation de chrome (Cr) est conçue pour des processus de dépôt physique en phase vapeur efficaces et fiables. Fabriquée avec une pureté de ≥99%, cette cible est fabriquée avec précision pour garantir des performances de pulvérisation optimales, une érosion uniforme et une durée de vie opérationnelle prolongée. Son point de fusion élevé et sa densité contribuent à une excellente stabilité thermique et à une durabilité pendant le fonctionnement continu. Idéale pour les applications de haute technologie, cette cible convient aux dispositifs à semi-conducteurs, aux panneaux d'affichage avancés et aux traitements de surface décoratifs.
Applications des cibles de pulvérisation de chrome (Cr)
- Fabrication de semi-conducteurs: Indispensable pour déposer des couches conductrices ou des couches barrières dans les dispositifs microélectroniques.
- Technologie d' affichage: Utilisée pour le dépôt de couches minces dans la production de panneaux d'affichage avancés.
- Revêtements décoratifs: Fournit des couches de chrome uniformes pour les finitions décoratives et protectrices.
- Revêtements optiques: Appliqués dans la fabrication de revêtements réfléchissants et antireflets.
- Outillage industriel: Améliore les propriétés de surface pour la résistance à l'usure et à la corrosion de divers composants industriels.
Emballage des cibles de pulvérisation du chrome (Cr)
Nos cibles de pulvérisation de chrome (Cr) sont soigneusement emballées pour préserver l'intégrité du produit tout au long du stockage et de la livraison. Les options d'emballage standard comprennent l'emballage sous vide, avec des solutions d'emballage personnalisées disponibles sur demande pour répondre aux exigences spécifiques de manipulation et d'expédition.
Questions fréquemment posées
Q : Qu'est-ce qu'une cible de pulvérisation ?
R : Une cible de pulvérisation est une source de matériau utilisée dans les processus de dépôt physique en phase vapeur pour former des couches minces sur des substrats en bombardant la surface de la cible avec des particules énergétiques.
Q : Quelles sont les principales applications d'une cible de pulvérisation de chrome ?
R : Elle est principalement utilisée pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs, la technologie des écrans, les revêtements décoratifs et les composants optiques.
Q : Que signifie la pulvérisation cathodique dans ce contexte ?
R : La pulvérisation cathodique se réfère à l'utilisation d'un plasma à courant continu pour éroder uniformément le matériau cible, garantissant ainsi un dépôt de film cohérent sur le substrat.
Q : La forme ou la taille de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, nos cibles de pulvérisation de chrome (Cr) sont disponibles sous forme de disques standard ou peuvent être fabriquées sur mesure pour répondre à des exigences spécifiques en matière de dimensions et d'applications.
Q : Comment la pureté de la cible affecte-t-elle les performances de pulvérisation ?
R : Une cible de haute pureté (≥99%) minimise les impuretés pendant le processus de dépôt, assurant une excellente qualité de film, l'uniformité et la performance globale dans les applications critiques.
