Substrat de SiO2/Si revêtu d'Au/Ti Description
Les plaquettes de silicium plaquées or peuvent être utilisées comme substrats dans le domaine de la nanotechnologie, de la microscopie électronique à balayage (MEB), de la microscopie à force atomique (AFM) et d'autres microscopes à sonde à balayage, ainsi que pour la culture cellulaire, les microréseaux d'ADN de protéines et les réflectomètres. La plaquette de silicium de ce produit est généralement recouverte d'une couche de Ti d'une épaisseur de 2 nm, puis d'un film d'or de 50 nm.
Spécifications du substrat SiO2/Si revêtu d'Au/Ti
Composition
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Au, Ti, SiO2, Si
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Film
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Au(111)=50 nm
Ti=2 nm
SiO2=300 nm
Si(100) P type B dopé ~525 um Prime Grade
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Résistivité
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1-20 ohm.cm
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Taille du substrat
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100/50mm de diamètre,
Épaisseur 0,525 mm/0,279 mm
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Polissage
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Polissage d'un côté
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Rugosité de surface
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< 10 A RMS
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Budget thermique maximal du film Au :
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inférieur à 200 ℃
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Substrats SiO2/Si revêtus d'Au/Ti Applications
Les plaques de silicium recouvertes de couches d'or et de titane (Au/Ti) sont largement utilisées comme substrats dans le domaine de la nanotechnologie, permettant des analyses de haute précision. Ces plaques de silicium sont essentielles pour la microscopie électronique à balayage (MEB) et la microscopie à force atomique (AFM), ainsi que pour d'autres techniques de microscopie à sonde à balayage. En plus de leur rôle dans la recherche, les plaques de silicium revêtues d'Au/Ti sont aussi utilisées dans la culture cellulaire, offrant un environnement contrôlé pour les études biologiques. Dans les domaines de la biotechnologie, les plaques de silicium sont également intégrées dans les puces à ADN et utilisées dans les réflectomètres pour des mesures optiques de précision.
Emballage des substrats SiO2/Si revêtus Au/Ti
Nos substrats SiO2/Si revêtus Au/Ti sont manipulés avec soin pendant le stockage et le transport afin de préserver la qualité de nos produits dans leur état d'origine.