Four rotatif 1200C pour dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma GSL-1200R-MWPE Description
Le four rotatif1200C CVD assisté par plasma micro-ondes GSL-1200R-MWPE est un four rotatif de dépôt chimique en phase vapeur assisté par micro-ondes (MPCVD), doté d'un générateur de micro-ondes de 2,45 GHz associé à un tube de traitement rotatif de 2 pouces fonctionnant à 0-5 tr/min. Cette combinaison est scellée sous vide par des brides, assurant une génération stable de plasma de 800°C à 1200°C sous un vide d'environ 4,5 torr.
Conçu spécifiquement pour la calcination rapide et la formation de structures cœur-coquille dans les matériaux en poudre, ce four est particulièrement adapté aux applications de recherche sur les batteries avancées. Son mécanisme rotatif facilite un traitement uniforme et améliore l'efficacité de la réaction, ce qui en fait un outil essentiel pour le développement des matériaux de batterie de la prochaine génération.
Four rotatif 1200C CVD assisté par plasma micro-ondes GSL-1200R-MWPE Spécifications
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Micro-ondes
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- Fréquence : 2,45 GHz ±25 MHz
- Puissance de sortie : 1400W
- Fuite de micro-ondes : ≤ 3 mW/cm² à 1 mètre de distance.
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Module de chauffage et tube de traitement
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- Une pièce chauffante en fil de Ni-Cr-Al d'un diamètre intérieur de 80 mm est installée à l'intérieur du module d'alumine fibreuse.
- Le serpentin chauffant est placé à l'intérieur de la chambre à micro-ondes
- Un tube de quartz de 2" (OD 50 x ID 44x L 600 mm) est inséré dans le module de chauffage et la chambre à micro-ondes pour produire du plasma.
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Puissance
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2000W, 208-240VAC, monophasé, 50/60Hz
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Brides et vide
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- Une paire de brides à vide est incluse pour sceller le tube de quartz.
- L'orifice de vide KF25 et l'entrée et la sortie de gaz 1/4 avec vannes à pointeau sont intégrés à la bride.
- Un vacuomètre numérique est inclus pour le contrôle du vide.
- Niveau de vide max. Niveau de vide : 10-2 torr par pompe sèche et 10-5 torr par turbopompe.
- La pompe n'est pas incluse.
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Vitessepivotante et rotativeen ligne
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- Deux raccords de gaz pivotants en ligne sont inclus et connectés aux brides, ce qui permet au tuyau de gaz de rester en place lorsque le tube est en rotation.
- Vitesse de rotation : la rotation du tube est entraînée par un moteur à courant continu dont la vitesse est variable de 1 à 5 tr/min.
- Un tuyau de gaz de 1/4" est nécessaire pour connecter les raccords de gaz pivotants en ligne au réservoir de gaz.
- Cliquez sur l'image à gauche pour voir les spécifications détaillées
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Temp. de travail
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- Temp. max. Temp. 1200℃ (<30min) ; ≤1100℃ en continu.
- Temp. min. Temp. min. : 800℃
- Vitesse de chauffage : 1 ~20°C/min
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Contrôleur de température
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- 30 segments programmables pour la vitesse de chauffage, la température et le temps de séjour, et la vitesse de refroidissement
- Régulation de la température par SCR
- Protection contre la surchauffe et la rupture du couple thermique
- Précision de contrôle +/-1.0℃
- Couple thermique de type K inséré à travers la bride
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Poids net
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30 kg
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Dimensions de l'appareil
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Micro-ondes : 560(L) x 410(L) x 340(H) mm
Profondeur totale avec le tube et la bride : 780 mm
Contrôleur : 600(L) x 520(L) x 265(H) mm
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Garantie
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- Garantie limitée d'un an avec assistance à vie.
- Les consommables, y compris les creusets, les éléments chauffants et les matériaux d'isolation thermique ne sont pas couverts par la garantie.
- ATTENTION : Les dommages causés par l'utilisation de gaz corrosifs et acides ne sont pas couverts par la garantie limitée d'un an de SAM.
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Certificat
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- Certifié CE
- La certification NRTL ou CSA est disponible moyennant un supplément de prix.
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Four rotatif CVD 1200C assisté par plasma micro-ondes GSL-1200R-MWPE Applications
- Synthèse de matériaux : Il peut être utilisé pour synthétiser des matériaux avancés, tels que le graphène, les nanotubes de carbone et d'autres nanomatériaux, qui sont essentiels pour l'électronique, l'optique et la recherche en science des matériaux.
- Modification de la surface : Le four peut modifier les propriétés de surface des matériaux afin d'améliorer des caractéristiques telles que la dureté, la résistance chimique et la biocompatibilité. Ces caractéristiques sont particulièrement utiles dans les applications biomédicales et aérospatiales.
- Production de films de diamant : Le plasma micro-ondes est efficace pour déposer des revêtements de carbone de type diamant, qui sont utilisés dans les outils, les revêtements résistants à l'usure et dans certains implants biomédicaux en raison de leur dureté et de leurs propriétés inertes.
Four rotatif 1200C CVD assisté par plasma micro-ondes GSL-1200R-MWPE Emballage
Notre four rotatif 1200C Microwave Plasma Assisted CVD GSL-1200R-MWPE est manipulé avec soin pendant le stockage et le transport afin de préserver la qualité de notre produit dans son état d'origine.
