Four à tube 1200C avec mécanisme de déplacement interne OTF-1200X-S-HPCVD Description
Le fourtubulaire 1200C est un four compact à tube divisé de 2" doté d'un système de déplacement interne de l'échantillon à l'intérieur du tube de traitement. Cette conception innovante permet un contrôle précis de la position et de la température de l'échantillon ou du creuset à l'aide d'un contrôleur numérique à écran tactile.
Principalement conçu pour le traitement thermique rapide multifonctionnel, le four prend en charge une gamme d'applications comprenant le dépôt en phase vapeur physico-chimique hybride (HPCVD), l'évaporation thermique rapide (RTE) et la croissance cristalline horizontale de Bridgman (HDC). Ces capacités en font un outil idéal pour la recherche avancée sur les cristaux dans les matériaux de nouvelle génération sous diverses atmosphères contrôlées.
Four tubulaire 1200C avec mécanisme de déplacement interne OTF-1200X-S-HPCVD Caractéristiques techniques
Caractéristiques
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- Structure à double couche avec système de refroidissement par air, qui permet de réduire efficacement la température de la surface de la coquille.
- Revêtement en oxyde d'aluminium pour améliorer l'efficacité de chauffage de l'équipement.
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Température de fonctionnement
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- Température de chauffage max : 1200℃ (≤30min)
- Température de fonctionnement : 1100℃
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Paramètres de base
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- Élément chauffant : Alliage Mo-Fe-Cr-Al
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Puissance
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220V AC, 2 KW, 50/60 Hz
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Contrôle de la température
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- Contrôle automatique PID via un relais à semi-conducteurs avec 30 étapes programmables
- Protection intégrée contre la surchauffe et la défaillance du thermocouple
- Précision de +/-1°C
- Couple thermique de type K
- Longueur de la zone de chauffage : 200 mm (8")
- Zone de température constante : 60 mm (+/-1°C @ 1000 °C)
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Etanchéité au vide
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- Bride de serrage rapide 2" avec raccords 1/4'', jauge à vide et vanne à pointeau sur le côté droit.
- La bride droite est reliée à un soufflet en acier inoxydable extensible jusqu'à 150 mm.
- Bride gauche avec prise de vide KF25 à serrage rapide et soupape de mise à l'air libre à barbillon 1/4
- Niveau de vide max. Niveau de vide : 10E-2 torr par pompe mécanique et 10-E5 par turbopompe
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Garantie
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- Garantie limitée d'un an avec assistance à vie.
- ATTENTION : Les dommages causés par l'utilisation de gaz corrosifs et acides ne sont pas couverts par la garantie limitée d'un an de SAM.
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Certificat
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- Certifié CE
- La certification NRTL ou CSA est disponible moyennant un supplément de prix.
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Four tubulaire 1200C avec mécanisme de déplacement interne OTF-1200X-S-HPCVD Applications
Pour le traitement thermique rapide multifonctionnel, tel que le dépôt physico-chimique hybride (HPCVD), l'évaporation thermique rapide (RTE), ainsi que la croissance horizontale de cristaux de Bridgman (HDC) sous diverses atmosphères pour la recherche sur les cristaux de nouvelle génération.
Four tubulaire 1200C avec mécanisme de déplacement interne OTF-1200X-S-HPCVD Emballage
Notre four tubulaire 1200C avec mécanisme de déplacement interne OTF-1200X-S-HPCVD est manipulé avec soin pendant le stockage et le transport afin de préserver la qualité de notre produit dans son état d'origine.