Description des matériaux d'évaporation à base de siliciure de hafnium
Lematériau d'évaporation à base de siliciure de hafnium, fourni par Stanford Advanced Materials, est un remarquable matériau d'évaporation céramique à base de siliciure dont la formule chimique est HfSi2. L'importance des matériaux d'évaporation HfSi2 de haute pureté dans les processus de dépôt ne peut être sous-estimée, car ils garantissent le dépôt de films de qualité supérieure. Stanford Advanced Materials (SAM) est spécialisé dans la production de matériaux d'évaporation présentant des niveaux de pureté allant jusqu'à 99,9995 %, soutenus par des processus d'assurance qualité rigoureux qui garantissent la plus grande fiabilité des produits.
Spécifications des matériaux d'évaporation à base de siliciure de hafnium
Spécification |
Description du matériau |
Type de matériau |
Silicate de hafnium(IV) |
Symbole |
HfSi2 |
Aspect/couleur |
Cristal tétragonal |
Point de fusion |
2 758 °C (4 996 °F ; 3 031 K) |
Densité |
7,0 g/cm³ |
Pureté |
99.5% |
Formes disponibles |
Poudre, granulés, sur mesure |
Application des matériaux d'évaporation à base de siliciure de hafnium
Lesmatériaux d'évaporation à base de siliciure d'hafnium trouvent une large application dans les processus de dépôt, couvrant le dépôt de semi-conducteurs, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépôt physique en phase vapeur (PVD). Leur principale utilité réside dans le domaine de l'optique, qui englobe la protection contre l'usure, les revêtements décoratifs et les avancées dans les technologies d'affichage.
Emballage des matériaux d'évaporation du siliciure d'hafnium
Chez Stanford Advanced Materials (SAM), nous donnons la priorité à l'identification efficace et au contrôle de la qualité de nos matériaux d'évaporation du siliciure d'hafnium. Ces matériaux sont méticuleusement étiquetés et marqués à l'extérieur, ce qui reflète notre engagement à éviter tout dommage potentiel pendant le stockage ou le transport.