CY3437 Plaque de silicium plaquée or (substrat SiO2/Si revêtu d'Au/Cr)

Catalogue No.	CY3437
Compositions	Au, Cr, SiO2, Si
Résistivité	<0,005 ohm.cm
Taille du substrat	Diamètre de 4" +/- 0,5 mm x 0,5 mm
Polissage	Une face polie
Rugosité de la surface	< 10 A RMS

Le substrat SiO2/Si revêtu d'Au/Cr peut être utilisé dans le domaine de la nanotechnologie, de la microscopie électronique à balayage (MEB), de la microscopie à force atomique (AFM) et d'autres microscopes à sonde à balayage. Stanford Advanced Materials (SAM) possède une grande expérience dans la fabrication et la fourniture de produits optiques de haute qualité.

Produits connexes : Film d'aluminium sur plaquette de silicium, substrat SiO2/Si revêtu d'Au/Ti, substrat SiO2/Si revêtu de Pt, plaquette de silicium revêtue d'Ag.

ENQUÊTE

sc/1622701847-normal-au-cr-coated-sio2-si-substrate.jpg

Description

Spécifications

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Composition	Au, Cr, SiO2, Si
Film	Au(111)=50 nm, ~ 50 nm à température ambiante Cr=5 nm SiO2=300 nm Si(100) P type B dopé ~525 um Prime Grade
Résistivité	<0.005 ohm.cm
Taille du substrat	4" de diamètre +/- 0,5 mm x 0,5 mm
Polissage	Polissage d'un côté
Rugosité de surface	< 10 A RMS

Composition	Au, Cr, SiO2, Si
Film	Au(111)=50 nm, ~ 50 nm à température ambiante Cr=5 nm SiO2=300 nm Si(100) P type B dopé ~525 um Prime Grade
Résistivité	<0,005 ohm.cm
Taille du substrat	4" de diamètre +/- 0,5 mm x 0,5 mm
Polissage	Polissage d'un côté
Rugosité de surface	< 10 A RMS

CY3437 Plaque de silicium plaquée or (substrat SiO2/Si revêtu d'Au/Cr)

Substrat de SiO2/Si revêtu d'Au/Cr Description

Spécifications du substrat SiO2/Si revêtu d'Au/Cr

Substrat SiO2/Si revêtu d'Au/Cr Applications

Emballage des substrats SiO2/Si revêtus d'Au/Cr

Spécifications

Fiche technique

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