ST1051 Cible de pulvérisation de tantale (cible de pulvérisation Ta)

Description des cibles de pulvérisation de tantale

Stanford Advanced Materials (SAM) est réputé pour fournir des cibles de pulvérisation de tantale de haute qualité. Ces cibles méticuleusement conçues sont fabriquées à partir de tantale exceptionnellement pur, ce qui garantit une composition cohérente et fiable. La densité remarquable du matériau améliore l'efficacité de la pulvérisation et l'adhérence du film. La stabilité thermique exceptionnelle du tantale permet aux cibles de résister à un échauffement extrême pendant la pulvérisation, ce qui les rend adaptées à toute une série de processus à haute température. De plus, l'exceptionnelle résistance à la corrosion du matériau garantit que les cibles conservent leur intégrité, même dans les conditions de pulvérisation les plus difficiles. Les faibles niveaux d'impuretés et de gaz contenus dans le tantale se traduisent par une qualité et une uniformité supérieures du film. En outre, la facilité d'usinage du matériau permet une mise en forme précise en fonction des besoins spécifiques de l'application. Grâce à ces propriétés exceptionnelles, les cibles de pulvérisation de tantale sont devenues le matériau de choix pour le dépôt de films de tantale dans toute une série d'industries, notamment l'électronique, l'optique, l'énergie solaire en couches minces et le stockage magnétique. Leur adaptabilité et leur fiabilité en font un composant essentiel dans de nombreux processus de dépôt par pulvérisation.

Spécifications des cibles de pulvérisation de tantale

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Nous fournissons également des disques de tantale de haute qualité.

Autres informations pour votre référence
Composition chimique :

Tantale et alliage de tantale

• R05200, tantale non allié, four à faisceau d'électrons ou arc sous vide, ou les deux
• R05400, tantale non allié, consolidation par métallurgie des poudres.
• R05255, alliage de tantale, 90 % tantale, 10 % tungstène, four à faisceau d'électrons ou arc sous vide, ou les deux.
• R05252, alliage de tantale, 97,5 % de tantale, 2,5 % de tungstène, four à faisceau d'électrons ou arc sous vide, ou les deux.
• R05240, alliage de tantale, 60 % tantale, 40 % niobium, four à faisceau d'électrons ou arc sous vide.

Applications des cibles de pulvérisation de tantale

1. Électronique : Les cibles de pulvérisation de tantale sont largement utilisées dans l'industrie électronique pour le dépôt de films de tantale dans les circuits intégrés, les condensateurs et autres composants microélectroniques. La grande pureté et la résistance à la corrosion du tantale en font un matériau idéal pour ces applications.

2. Optique : Les cibles de pulvérisation de tantale sont également utilisées dans l'industrie optique pour le dépôt de films de tantale sur les composants optiques, tels que les lentilles et les miroirs. La transparence et la dureté élevées du tantale en font un matériau adapté à cette application.

3. Énergie solaire en couches minces : Les cibles de pulvérisation du tantale sont utilisées dans la production de cellules solaires à couche mince. Le dépôt de films de tantale sur les cellules solaires améliore leur efficacité et leur fiabilité.

4. Stockage magnétique : Dans l'industrie du stockage magnétique, les cibles de pulvérisation cathodique de tantale sont utilisées pour déposer des films de tantale sur les disques et les bandes magnétiques, améliorant ainsi leur durabilité et leurs performances.

5. Revêtements décoratifs : En raison de l'aspect attrayant du tantale, les cibles de pulvérisation cathodique de tantale sont également utilisées dans la production de revêtements décoratifs pour divers produits de consommation, tels que les bijoux et les montres.

Emballage des cibles de pulvérisation de tantale

Nos cibles de pulvérisation de tantale sont manipulées avec soin pendant le stockage et le transport afin de préserver la qualité de nos produits dans leur état d'origine.

Fiche de données de sécurité (MSDS) pour votre référence !