Description des plateaux en graphite revêtus de carbure de silicium
Les plateauxen graphite revêt us de carbure de silicium sont créés en recouvrant la surface d'un graphite isotrope hautement purifié d'une fine couche de carbure de silicium par un procédé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Les plateaux en graphite revêtus de SiC sont largement utilisés dans les semi-conducteurs et les revêtements.
Le procédé CVD permet d'obtenir une pureté et une densité théorique extrêmement élevées du revêtement SiC, sans porosité. De plus, le carbure de silicium étant très dur, il peut être poli pour obtenir une surface semblable à celle d'un miroir. Le revêtement de carbure de silicium (SiC) par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) présente plusieurs avantages, notamment une surface d'une très grande pureté et une très grande résistance à l'usure. Les produits revêtus étant très performants dans des conditions de vide poussé et de haute température, ils sont idéaux pour des applications dans l'industrie des semi-conducteurs et d'autres environnements ultra-propres.
Stanford Advanced Materials propose également des plateaux en graphite revêtus de carbure de silicium.
Spécification des plateaux en graphite revêtus de carbure de silicium
Formule du composé
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SiC
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Poids moléculaire
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40.1
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Aspect
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Noir
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Point de fusion
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2,730℃ (4,946℉) (se décompose)
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Densité
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3,0 à 3,2 g/cm3
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Résistivité électrique
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1 à 4 10x Ω-m
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Rapport de Poisson
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0,15 à 0,21
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Chaleur spécifique
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670 à 1180 J/kg-K
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Épaisseur du revêtement
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50~500um
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Avantages des plateaux en graphite revêtus de carbure de silicium
- La couche de carbure de silicium est très dure et stable à haute température. Elle présente une excellente résistance à l'oxydation, à la corrosion et aux produits chimiques.
- Le graphite revêtu de SiC empêche la séparation et la dispersion des particules de graphite, ainsi que l'émission de gaz et d'impuretés dans la matrice de graphite.
Applications des plateaux en graphite revêtus de carbure de silicium
- Le revêtement CVD de carbure de silicium a déjà été appliqué dans l'industrie des semi-conducteurs, notamment sur les plateaux MOCVD, les RTP et les chambres de gravure sur oxyde, car le nitrure de silicium présente une grande résistance aux chocs thermiques et peut supporter un plasma à haute énergie.
- Le carbure de silicium est largement utilisé dans les semi-conducteurs et les revêtements.
Emballage des plateaux en graphite revêtus de carbure de silicium
Nos plateaux en graphite revêtus de carbure de silicium sont manipulés avec soin afin de minimiser les dommages pendant le stockage et le transport et de préserver la qualité de nos produits dans leur état d'origine.